臺積電高雄新廠2nm進度超前，有意擴大高雄投資，規(guī)劃于前中油高雄煉油廠土地興建第三期廠房（P3），第四期（P4）、第五期（P5）也啟動環(huán)評，并爭取擴大開發(fā)面積，將在P3東側接續(xù)擴建，延續(xù)先進制程。根據規(guī)劃，P3廠在2026年完工后，預計P4、P5廠也將在2027年接力完工。
法人看好，臺積電擴大高雄先進制程投資，意味客戶訂單持續(xù)涌入，公司有必要增加更多產能，為后續(xù)運營增添更多動能。
臺積電在中國臺灣布局2nm，新竹寶山、高雄新廠兩路并進，預計2025年量產。高雄廠是臺積電在當地的首座12英寸廠，原定以成熟制程切入，2023年8月董事會拍板朝2nm擴充發(fā)展，原規(guī)劃相關設備最快2025年第三季進機，已提前至11月底進機，較原計劃超前半年以上。
臺積電高雄廠布局順遂，規(guī)劃在原中油高雄煉油廠土地內興建P3，但全球半導體業(yè)急劇變動及國際競爭力，基于產業(yè)制程全球布局考量，仍具緊迫持續(xù)推動建廠運營需求，規(guī)劃在P3廠房旁土地啟動擴建P4、P5計劃，發(fā)揮產能群聚綜效。
根據環(huán)評數據，臺積電正爭取擴大P4、P5開發(fā)面積，原本10月規(guī)劃面積約41公頃，最新定案面積增至43公頃左右，加計原申請的P3廠面積后，合計基地面積約60公頃。臺積電12月26日將召開“原中油公司高雄煉油廠土地新建半導體廠擴建計劃”環(huán)境影響說明書公開會議，正式對外說明。
臺積電在一期園區(qū)啟動第一期（P1）、第二期（P2）建廠后，今年啟動P3擴建計劃，但擴廠用地迫切，決定在P3廠旁接續(xù)啟動P4、P5廠擴建計劃。
